真空管式爐的特點(diǎn)是在某一既定溫度下，可以預(yù)抽真空并能通氫氣、氬氣、氮?dú)狻⒀鯕?、一氧化碳、氨分解氣等氣體，主要應(yīng)用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機(jī)械、耐火材料、特種材料、建材、高校、科研院所、工礦企業(yè)做粉末焙燒、陶瓷燒結(jié)、高溫實(shí)驗(yàn)、材料處理、質(zhì)高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD實(shí)驗(yàn)、真空退火等。院校實(shí)驗(yàn)室和工礦企業(yè)實(shí)驗(yàn)室，在進(jìn)行高、中、低溫CVD工藝，如碳納米管的研制，晶體硅基板鍍膜，金屬材料擴(kuò)散焊接以及真空或氣氛下的熱處理等實(shí)驗(yàn)時(shí)，會(huì)經(jīng)常用到真空管式爐，在進(jìn)行這些實(shí)驗(yàn)時(shí)需要注意以下幾點(diǎn)事項(xiàng)：
 

　　1、實(shí)驗(yàn)樣品的安裝和支撐架的熱導(dǎo)率要低，以確保試驗(yàn)樣品與安裝和支撐架間處于一種絕熱的狀態(tài)；
 

　　2、檢查高溫真空管式爐的試驗(yàn)區(qū)內(nèi)有無(wú)油氣等易揮發(fā)性物質(zhì)和有氣味的物質(zhì)，這類(lèi)物質(zhì)對(duì)試驗(yàn)的影響必須預(yù)行確認(rèn)；
 

　　3、冷爐使用時(shí)，由于管式爐膛是冷的，須吸熱，所以低溫段升溫速率不易過(guò)快，各溫度段的升溫速率差別不易太大，設(shè)置升溫速率時(shí)應(yīng)充分考慮所燒結(jié)材料的物理化學(xué)性質(zhì)，以免出現(xiàn)噴料現(xiàn)象，污染爐管。
 

　　4、爐溫盡量不要超過(guò)額定溫度，以免損壞加熱元件及爐襯。
 

　　5、管式爐在溫度試驗(yàn)測(cè)試結(jié)束以后，必須在試驗(yàn)樣品冷卻到室溫后才能取出樣品，否則會(huì)對(duì)樣品產(chǎn)生不必要的應(yīng)力，會(huì)對(duì)樣品產(chǎn)生不可逆轉(zhuǎn)的影響；
 

　　6、為保持管式爐溫區(qū)內(nèi)溫度一致，需要盡可能試驗(yàn)環(huán)境溫度及設(shè)備動(dòng)力電源的波動(dòng)小，確保試驗(yàn)樣品不產(chǎn)生熱輻射，不吸收熱量從而試驗(yàn)區(qū)內(nèi)的溫度平穩(wěn)。